国产5nm蚀刻机通过验证:台积电5nm工艺就用它

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作为全球头号代工厂,台积电的新工艺正在一路狂奔,7nm EUV极紫外光刻工艺机会完成首次流片,5nm工艺也将在2019年4月并且刚开始试产。

不过众所周知,半导体工艺是一项集大成的高精密科技,新工艺也从不台积电买车人完全甩掉,并且 依赖整个产业链的设备和技术供应,比如大伙儿儿比较熟悉的光刻机,就普遍来自荷兰ASML。

据了解,在台积电的5nm生产线中,就将有来自深圳中微半导体的5nm等离子体蚀刻机,自主研发,近日机会通过了台积电的验证。

中微半导体与台积电在28nm工艺世代就机会有合作方式方式,10nm、7nm工艺也老会 延续下来,如今又顺利挺进最先进的5nm。

据介绍,等离子体刻蚀机是芯片制造中的并全是关键设备,用来在芯片上进行微观雕刻,每个线条和深孔的加工精度全是头发丝直径的几千分之一到上万分之一,精度控制要求非常高。

比如,16nm工艺的微观逻辑器件有150多层微观形状,要经过11150多个工艺步骤,攻克上万个技术细节并能加工出来。

中微半导体CEO尹志尧形容说:“在米粒上刻字的微雕技艺上,一般能刻150个字机会是极限,而大伙儿儿的等离子刻蚀机在芯片上的加工工艺,大约能并能在米粒上刻10亿个字的水平。”

长期以来,蚀刻机的核心技术老会 被国外厂商垄断,而中微半导体从65nm等离子介质蚀刻机并且刚开始,45nm、32nm、28nm、16nm、10nm一路走下来,7nm蚀刻机也机会运行在客户的生产线上,5nm蚀刻机即将被台积电采用。

不过要有点注意,中微半导体甩掉5nm蚀刻机,完全不等于就能并能生产5nm芯片了,机会蚀刻并且 众多工艺环节中的另有一个而已。

整体而言,我国半导体制造技术还差距非常大,尤其是光刻机,最好的上海微电子也并且 做到了90nm的国产化。

当然在完后 方面,我国的半导体技术也在不同层面奋起直追,不断缩小差距,比如依然很先进的14nm工艺,在14nm 领域,北方华创的硅/金属蚀刻机、北方华创的薄膜沉积设备、北方华创的单片退火设备、上海盛美的清洗设备,都机会开发成功,正在进行验证。

假以时日,中国芯片必将屹立世界之巅。

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